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萌芽:诞生背景与创业初心
2004
年,在上海这片充满创新活力的土地上,中微公司正式成立,宛如一颗新星在半导体领域崭露头角。彼时,全球半导体产业正处于高速发展的黄金时期,技术迭代日新月异,而中国的半导体设备产业却面临着诸多困境,核心技术被国外巨头牢牢把控,长期依赖进口,犹如被扼住了咽喉。
中微公司的创始人尹志尧,这位在半导体领域深耕多年的传奇人物,在硅谷积累了近
20
年的丰富经验,是半导体设备研发领域的资深专家
。他曾参与并主导了多项关键技术的研发,在国际半导体设备舞台上有着举足轻重的地位。然而,功成名就的他,心中始终怀揣着一个梦想
——
回国创业,为中国半导体设备产业的崛起贡献自己的力量。
尹志尧深刻认识到,半导体产业作为现代信息技术的核心,是国家科技实力和经济竞争力的重要体现。而半导体设备作为产业发展的基石,其重要性不言而喻。他毅然决然地放弃了在硅谷的优厚待遇和舒适生活,带领着一支由
15
位志同道合的伙伴组成的团队,踏上了回国创业的征程,决心填补中国在高端半导体设备领域的空白。
中微公司从创立之初,就将目光瞄准了国际先进水平,以
“打造具有全球竞争力的高端半导体设备企业”
为愿景,致力于研发拥有自主知识产权的刻蚀机设备。在当时的环境下,这无疑是一项极具挑战性的任务。资金短缺、技术封锁、人才匮乏等难题接踵而至,但尹志尧和他的团队并没有被困难吓倒,他们凭借着坚定的信念和顽强的毅力,开始了艰苦卓绝的创业之路。
成长:发展历程中的关键节点
技术突破与产品落地(2007
-
2012
年)
创业初期,中微公司将全部精力都投入到了刻蚀机的研发之中。经过无数个日夜的艰苦攻关,2007
年,中微公司迎来了第一个重大里程碑
——
首台
然而,中微公司并没有满足于此,他们深知技术创新是企业发展的核心动力,只有不断突破,才能在激烈的市场竞争中立于不败之地。于是,他们马不停蹄地投入到了下一轮的研发中。在接下来的几年里,中微公司的研发团队夜以继日地工作,攻克了一个又一个技术难题。2011
年,45
纳米介质刻蚀设备研制成功;2013
年,22
纳米介质刻蚀设备也顺利诞生
。每一次技术突破,都代表着中微公司在半导体刻蚀领域的技术实力又上了一个新台阶。
除了刻蚀设备,中微公司在
cvd(金属有机化学气相沉积)设备的研发上也取得了重大突破。2012
年,首台
cvd
设备研制成功并交付客户。cvd
设备主要用于制造
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